濕法化學(xué)清洗
大部分的清洗方法可粗略地分為濕法清洗和干法清洗，過(guò)去的三十年中,，濕法清洗一直是晶片技術(shù)咨詢(xún)的主流,，它是利用溶劑、各種酸堿,、表面活性劑和水,，通過(guò)腐蝕、溶解,、化學(xué)反應(yīng)轉(zhuǎn)入溶液和冷熱)中洗等方法去除晶片表面的沾污物,，每次使用化學(xué)試劑后都應(yīng)用超純水清洗，以去除化學(xué)試劑的殘留物,。雖然沒(méi)有哪一種清洗方法可以適用于所有的清洗要求,，但三十年來(lái)濕法清洗已形成了自己典型的清洗順序。
(1)常用化學(xué)試劑,、清洗液的性質(zhì)
化學(xué)試劑及清洗液的去污能力,，對(duì)于濕法化學(xué)清洗的清洗效率有決定性的影9向，濕法化學(xué)清洗的首要步驟是根據(jù)硅片清洗目的和要求選擇適當(dāng)?shù)脑噭┖颓逑匆?。硅片清洗中常用的化學(xué)試劑和清洗液主要有無(wú)機(jī)酸,、氧化劑、絡(luò)合劑,、雙氧水清洗液,、有機(jī)溶劑、合成洗滌劑,、電子清洗劑等幾大類(lèi),。它們?cè)诨瘜W(xué)清洗中的主要作用或化學(xué)性質(zhì)見(jiàn)表1。
(2)溶液浸泡法
溶液浸泡法就是通過(guò)將要清除的硅片放入溶液中浸泡來(lái)達(dá)到清除表面污染的目的的一種方法,，它是濕法化學(xué)清洗中最常用的一種方法,。它主要是通過(guò)溶液與硅片表面的污染雜質(zhì)在浸泡過(guò)程中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)及溶解作用來(lái)達(dá)到清除硅片表面雜質(zhì)的目的。選用不同的溶液來(lái)浸泡硅片可以達(dá)到清除不同類(lèi)型表面污染雜質(zhì)的目的,。單純的溶液浸泡法效率往往不盡人意,，所以在采用浸泡的同時(shí)往往還輔以加熱、超聲,、攪拌等物理措施,。
(3)機(jī)械擦洗法
當(dāng)硅片表面沾有微粒或有機(jī)殘?jiān)鼤r(shí)常用擦片的方法清洗,。刷片法被認(rèn)為是去除化學(xué)機(jī)械拋光液殘余物的最有效的方法之一,。這種清洗方法在日本、韓國(guó)和臺(tái)灣非常普遍，在歐洲和美國(guó)也獲得廣泛應(yīng)用,。機(jī)械擦洗法一般分為手工擦洗法和機(jī)械擦洗法兩種方法,。
手工擦洗法是最簡(jiǎn)單的一種擦洗法，一般用鑷子夾取浸有甲苯,、丙酮,、無(wú)水乙醇等有機(jī)溶劑的棉球，在硅片表面沿著同一方向輕擦,，以去除蠟?zāi)?、灰塵、殘膠司其他固體顆粒,。但此法易造成劃傷,，污染嚴(yán)重。
用于擦洗的擦片機(jī)又可分為純機(jī)械性擦刷的擦片機(jī)和高壓擦片機(jī)等,。純機(jī)械性擦片機(jī)利用機(jī)械旋轉(zhuǎn),，使軟羊毛刷或刷輥擦刷硅片表面。該法較手工擦洗造成的硅片劃傷大大減輕,。而高壓擦片機(jī)由于無(wú)機(jī)械摩擦,，則會(huì)劃傷硅片表面，而且可以達(dá)到清除槽痕里的沾污,，硅片機(jī)擦洗是硅片擦洗的趨勢(shì),。
(4)超聲波清洗法
超聲波清洗是牛導(dǎo)體工業(yè)中廣泛應(yīng)用的一種清洗法，該方法的優(yōu)點(diǎn)是：清洗效果好,，操作簡(jiǎn)單,，對(duì)于雜的器件和容器也能清除，但該方法具有噪音較大,、能器易壞的缺點(diǎn),。
該方法的清洗原理如下；在強(qiáng)烈的超聲波作用(常用的超聲波頻率為20 kH2到40kHz左右),，液體內(nèi)會(huì)產(chǎn)生疏部和密部,，疏部產(chǎn)生近乎真空的空腔泡，當(dāng)腔泡消失的瞬間,，其附近便產(chǎn)生強(qiáng)大的局部壓力，傻子內(nèi)的化學(xué)鍵斷裂,，因此使硅片表面的雜質(zhì)解吸,。蘭聲波的頻率和空腔泡的振動(dòng)頻率共振時(shí)，機(jī)械作用大到最大,，泡內(nèi)聚集的大量熱能,，使溫度升高，促進(jìn)化反應(yīng)的發(fā)生。超聲波清洗的效果與超聲條件(如溫度,、壓力,、超聲頻率、功率等)有關(guān),，而且提高超聲波珍往往有利于清洗效果的提高,。